«Роснано» проинвестировала в голландскую микроэлектронику 40 млн ЕВРО

«Роснано» проинвестировала в голландскую микроэлектронику 40 млн ЕВРО

×
307

«Роснано» проинвестировала в голландскую микроэлектронику 40 млн ЕВРО

  • «Роснано» выбрала голландского производителя микроэлектроники Mapper Lithography в качестве перспективного объекта инвестиций. Первоначальная сумма вложений составила 40 млн евро.

Помимо «Роснано» в инвестировании Mapper примут участие действующие акционеры компании ADP Industries, Parcom Capital (Parc-IT) и Hoving & Partners, технологические компании Technolution и Demcon, частные инвесторы, семейные инвестиционные фонды, а также Агентство Нидерландов при министерстве экономики, сельского хозяйства и инноваций, которые совместно вложат в Mapper Lithography еще 40 млн.

Таким образом, Mapper Lithography в нынешнем раунде инвестиций получит 80 млн евро.

Основанная в Делфтском техническом университете Mapper Lithography, занимается разработкой литографического оборудования нового поколения на основе технологии множественных электронных лучей (multiple e-beam).

Эта технология — альтернатива существующему методу фотолитографии, применяемому при производстве подложек микросхем. Как пишут в своем сообщении «Роснано» и Mapper, разработки голландской компании позволяют производить до 100 подложек в час при разрешающей способности 22 нм и выше, что соответствует применяемому в микроэлектронике топологическому стандарту 14 нм и 10 нм.

В результате инвестиции Mapper выпустит несколько поколений оборудования Matrix. Модель Matrix 1.1, выпуск которой ожидается в 2012 г., использует более 1300 «электронных лучей» и обрабатывает одну подложку в час. Модель Matrix 10.1, использующая 13260 электронных лучей, обладает производительностью 10 подложек в час. Кластер Matrix 10.10, состоящая из десяти установок Matrix 10.1, обрабатывает 100 подложек в час, что соответствует требованиям массового производства микросхем. В рамках инвестиционного проекта производственные мощности Mapper будут расширены до 20 литографических машин в год.

Как ожидается, в России будет создано предприятие по выпуску электронной оптики на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС) – ключевого компонента оборудования Mapper. Его мощность составит до 20 систем электронной оптики в год, каждая из которых способна управлять 13 260 параллельными электронными лучами.

Технология безмасочной литографии на платформе Mapper поддерживается международной программой Imagine, основными участниками которой тайваньский производитель микроэлектроники TSMC и французская STMicroelectronics.

В 2012 г. программа Imagine была продлена на три года, на протяжении которых производители микроэлектроники смогут протестировать опытное оборудование Matrix в реальной производственной обстановке.

По материалам: CNews.ru

Комментарии

comments powered by Disqus

Разместить рекламу

Задать вопрос

×